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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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干涉法测量光学材料光学非均匀性

刘旭 任寰 于德强 杨一 郑芳兰

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干涉法测量光学材料光学非均匀性

    作者简介: 刘旭(1983- ),男,硕士,从事光学检测技术的研究.E-mail:zjuliuxu@gmail.com.
  • 基金项目:

    国家八六三高技术研究发展计划资助项目

  • 中图分类号: TN249

Measurement method for inhomogeneity of optical material by means of interferometry

  • CLC number: TN249

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出版历程
  • 收稿日期:  2010-04-28
  • 录用日期:  2010-07-02
  • 刊出日期:  2011-03-25

干涉法测量光学材料光学非均匀性

    作者简介: 刘旭(1983- ),男,硕士,从事光学检测技术的研究.E-mail:zjuliuxu@gmail.com
  • 1. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 绵阳, 621900
基金项目:  国家八六三高技术研究发展计划资助项目

摘要: 为了实现光学材料光学非均匀性的高精度检测,采用将光学材料制成一小楔角(小于0.117°)光学元件并利用菲索干涉法检测其光学非均匀性的方法,对测量过程进行了理论仿真分析和熔石英材料光学非均匀性的实验验证,取得了熔石英材料的光学非均匀性数据,峰谷值为4.33×10-6,均方根值为0.862×10-6,测量准确度优于4.8×10-7。结果表明,该测量方法能有效避免目前检测方法中将光学材料制成平板元件而引起干涉混叠的现象。

English Abstract

参考文献 (10)

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