一种破坏薄膜微柱状结构的镀膜方法：计算机模拟与机理分析

张伟; 苌国强

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一种破坏薄膜微柱状结构的镀膜方法：计算机模拟与机理分析

张伟 , 苌国强

文章导航 > 激光技术 > 1990 > 14(1): 45-49

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一种破坏薄膜微柱状结构的镀膜方法：计算机模拟与机理分析

张伟,
苌国强

1.
哈尔滨工业大学哈尔滨

A coating method of destroying the column structure of the thin films：computer simulation and analysis of the mechanism

1.
Harbin Institute of Technology

摘要: 提出一种基于在0°～180°范围内连续改变沉积膜的蒸发角的方法,利用这种方法可以破坏真空沉积薄膜的典型柱状结构,从而使沉积膜的结构接近大块材料的结构.本文给出了这种结构膜的生长公式,并计算与摸拟了这时薄膜的微观结构,同时分析了由于这种结构而使薄膜具有良好特性的机理.
Abstract: A method based on changing the depositing angle constinously in the range of 0°～180°has been proposed,by which the typical column structure of the vapor depositing coating is destroied,therefore the depositing films have the structure as that of the bulk materials.The growthing formula are given in this thesis.And the microstructure of the thin fihns in this case has simulately computer by computer.At the same time,the mechanism of the better characters due to this structure has been analysed.

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