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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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F+离子注入BaF2薄膜的光学性质

曾论 周明 赵西南 文雪冬

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F+离子注入BaF2薄膜的光学性质

    作者简介: 曾论,男,1962年出生.工程师.现从事离子注入和半导体光电器件研究;周明,男,1963年出生.硕士.现从事光学薄膜器件的研究. ;曾论,男,1962年出生.工程师.现从事离子注入和半导体光电器件研究;周明,男,1963年出生.硕士.现从事光学薄膜器件的研究. .

The optical property of BaF2 film implanted by F+ ion

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出版历程
  • 收稿日期:  1988-12-28
  • 刊出日期:  1989-05-25

F+离子注入BaF2薄膜的光学性质

    作者简介: 曾论,男,1962年出生.工程师.现从事离子注入和半导体光电器件研究;周明,男,1963年出生.硕士.现从事光学薄膜器件的研究. ;曾论,男,1962年出生.工程师.现从事离子注入和半导体光电器件研究;周明,男,1963年出生.硕士.现从事光学薄膜器件的研究.
  • 1. 西南技术物理研究所

摘要: 本文报导了F+离子注入对BaF2薄膜的光学性质的影响,实验观察到了离子注入引起的薄膜的透过率谱的变化,在一定温度下退火可以使这种变化消除。

English Abstract

参考文献 (2)

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