激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

黄河; 朱晓; 朱长虹; 朱广志; 李跃松; 张沛; 万承华

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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

黄河 , 朱晓 , 朱长虹 , 朱广志 , 李跃松 , 张沛 , 万承华

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Citation:

激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

1.
华中科技大学, 激光工程研究院, 武汉, 430074;
2.
清溢精密光电有限公司, 深圳, 518000

作者简介: 黄河(1982- ),男,硕士研究生,研究方向是激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用..

通讯作者: 朱晓, zx@hust.edu.cn ;

中图分类号: TQ034

Laser chemical vapor deposition used in photomask repair

1.
Institute of Laser Technology and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China;
2.
Qingyi Precision Maskmaking LTD., Shenzhen 518000, China

Corresponding author: ZHU Xiao, zx@hust.edu.cn ;

CLC number: TQ034

摘要: 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的55nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜.结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求.
- 激光技术 /
- 光化学 /
- 光掩模修复 /
- 激光化学气相沉积 /
- 开放式
Abstract: In order to repair the clear defects of photomask,a 355nm UV laser with the intensity of 1.3×108W/cm2 is used to induce hexacarbonyls chrome photolysis in the open air,and get the Cr film with good adhesion and extinction on transparent substrate.Results show that,in the open air,the method with high intensity and short radiation time can get high quality film.
- laser technique /
- photochemistry /
- photomask repair laser /
- induced chemical vapor deposition(LCVD) /
- open air

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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

通讯作者: 朱晓, zx@hust.edu.cn;

作者简介: 黄河(1982- ),男,硕士研究生,研究方向是激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用.

1. 华中科技大学, 激光工程研究院, 武汉, 430074;
2. 清溢精密光电有限公司, 深圳, 518000

收稿日期: 2006-03-06
录用日期: 2006-09-29
网络出版日期: 2007-06-25

关键词:

摘要: 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的55nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜.结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求.