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激光划痕法膜基界面的温度场及应力场分析

冯爱新 程昌 殷苏民 周建忠 唐翠屏

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激光划痕法膜基界面的温度场及应力场分析

    作者简介: 冯爱新(1970- ),男,副教授,主要从事激光加工与检测技术研究.E-mail:aixfeng@ujs.edu.cn.
  • 基金项目:

    国家自然科学基金资助项目(50405035);江苏省研究生创新计划资助项目(XM04-24,XM05-32);江苏省自然科学基金资助项目(BK2007512);先进数控机床技术江苏省高校重点实验室开放基金资助项目(KXJ07126)

  • 中图分类号: O484

Study on temperature and stress field of film-substrate system irradiated by laser scratching

  • CLC number: O484

  • 摘要: 为了对膜基系统的温度分布和应力分布进行模拟研究,采用ANSYS有限元分析软件,对高斯移动激光加载条件下TiN薄膜的温度场和由温度场产生的应力场进行了稳态分析。研究结果表明,温度场随激光光源的移动而移动,温度场中温度最大点在激光光斑中心处,且激光光源移动方向后方的温度场有较大的迟滞现象。在膜基系统中产生的应力场主要集中在薄膜内部。温度场和应力场的研究对探讨膜基系统失效进程具有重要意义。
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-07-18
  • 录用日期:  2007-08-07
  • 刊出日期:  2008-10-25

激光划痕法膜基界面的温度场及应力场分析

    作者简介: 冯爱新(1970- ),男,副教授,主要从事激光加工与检测技术研究.E-mail:aixfeng@ujs.edu.cn
  • 1. 江苏大学, 机械工程学院, 镇江, 212013
基金项目:  国家自然科学基金资助项目(50405035);江苏省研究生创新计划资助项目(XM04-24,XM05-32);江苏省自然科学基金资助项目(BK2007512);先进数控机床技术江苏省高校重点实验室开放基金资助项目(KXJ07126)

摘要: 为了对膜基系统的温度分布和应力分布进行模拟研究,采用ANSYS有限元分析软件,对高斯移动激光加载条件下TiN薄膜的温度场和由温度场产生的应力场进行了稳态分析。研究结果表明,温度场随激光光源的移动而移动,温度场中温度最大点在激光光斑中心处,且激光光源移动方向后方的温度场有较大的迟滞现象。在膜基系统中产生的应力场主要集中在薄膜内部。温度场和应力场的研究对探讨膜基系统失效进程具有重要意义。

English Abstract

参考文献 (10)

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