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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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GaN基材料局域光学厚度均匀性的检测方法

陈贵宾

引用本文:
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GaN基材料局域光学厚度均匀性的检测方法

    作者简介: 陈贵宾(1972- ),男,博士,主要从事光电功能材料生长、器件制备及性能优化等.E-mail:gbchen@mail.sitp.ac.cn.
    通讯作者: 陈贵宾, gbchen@mai.lsitp.ac.cn
  • 基金项目:

    国家自然科学基金资助项目(10234040);上海市科技攻关计划资助项目(036511008);江苏省高校自然科学研究资助项目(05KJB140038)

  • 中图分类号: TB34

Uniformity test of the local optical thickness for GaN-based material

    Corresponding author: CHEN Gui-bin, gbchen@mai.lsitp.ac.cn
  • CLC number: TB34

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出版历程
  • 收稿日期:  2005-02-28
  • 录用日期:  2005-10-24
  • 刊出日期:  2006-05-25

GaN基材料局域光学厚度均匀性的检测方法

    通讯作者: 陈贵宾, gbchen@mai.lsitp.ac.cn
    作者简介: 陈贵宾(1972- ),男,博士,主要从事光电功能材料生长、器件制备及性能优化等.E-mail:gbchen@mail.sitp.ac.cn
  • 1. 淮阴师范学院, 物理系, 低维材料化学省重点建设实验室, 淮阴, 223001;
  • 2. 中国科学院, 上海技术物理研究所, 红外物理国家重点实验室, 上海, 200083
基金项目:  国家自然科学基金资助项目(10234040);上海市科技攻关计划资助项目(036511008);江苏省高校自然科学研究资助项目(05KJB140038)

摘要: 为了表征严重影响材料生长和器件性能均匀性的微米尺度的局域非均匀性,采用非接触、快捷的荧光光谱的测量方法,并经数据处理后直接得到微米量级薄膜光学厚度参数的均匀性。结果表明,拟合后获得的斜率分布均匀性可直接反映材料厚度的均匀性,可为材料生长工艺优化研究提供重要的信息。

English Abstract

参考文献 (8)

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