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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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1.06μm连续激光辐照TiO2/SiO2薄膜元件的损伤效应研究

周维军 袁永华 张大勇 桂元珍 江继军

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1.06μm连续激光辐照TiO2/SiO2薄膜元件的损伤效应研究

    作者简介: 周维军(1979- ),男,硕士研究生,主要从事激光对抗以及激光与材料相互作用研究..
    通讯作者: 袁永华, yuanyh7693@sina.com
  • 中图分类号: O484.5

Research on damage of TiO2/SiO2film induced-by 1.06μm CW laser

    Corresponding author: YUAN Yong-hua, yuanyh7693@sina.com ;
  • CLC number: O484.5

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出版历程
  • 收稿日期:  2004-10-18
  • 录用日期:  2004-12-13
  • 刊出日期:  2006-01-25

1.06μm连续激光辐照TiO2/SiO2薄膜元件的损伤效应研究

    通讯作者: 袁永华, yuanyh7693@sina.com
    作者简介: 周维军(1979- ),男,硕士研究生,主要从事激光对抗以及激光与材料相互作用研究.
  • 1. 中国工程物理研究院, 流体物理研究所, 绵阳, 621900

摘要: 用1.06μm连续激光辐照TiO2/SiO2薄膜元件,在不同强度下测量了激光辐照TiO2/SiO2薄膜元件引起反射信号幅度随时间的变化,并观察到薄膜从基体材料表面起泡、膜层脱落的现象.研究结果表明,TiO2/SiO2薄膜的反射光信号变化是连续激光辐照薄膜元件产生的热效应引起的;在激光辐照过程中,薄膜元件基体材料产生的热变形差别是基体起泡、脱落的主要原因.

English Abstract

参考文献 (7)

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