灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究

杨智; 戴一帆; 颜树华

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灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究

杨智 , 戴一帆 , 颜树华

文章导航 > 激光技术 > 2004 > 28(4): 406-409

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Citation:

灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究

1.
国防科技大学, 机电工程与自动化学院, 长沙, 410073

作者简介: 杨智(1978- ),男,博士研究生,现主要从事微光机电方面的研究.E-mail:sun8_1@163.com.

基金项目:
国家自然科学基金资助项目(50005022)
中图分类号: TN305.7

Manufacturing system for gray-scale masks’ mask patterns’ making and technique study

1.
College of Mechatronics Engineering and Automation, National University of Defense Technology, Changsha 410073, China
CLC number: TN305.7

摘要: 灰度掩模法是目前正在积极探索的一种二元光学器件制作方法。从基于空间光调制器的灰度掩模制作方法出发,就“掩模图形的生成”和“工艺”这两个难点问题进行了深入的研究,并具体地制作了几种常用的二元光学器件的灰度掩模,为该方法进一步投入实用提供了一条较好的思路。
- 空间光调制器 /
- 灰度掩模 /
- 工艺 /
- 二元光学
Abstract: Gray-scale mask method is an active groping facture idea of binary optics at present.For more utility,some difficult questions such as mask patterns' making and technique are being studied in-depth based on the manufacturing method for gray-scale masks using special light modulator.At the same time,some gray-scale masks of normal binary optical elements have been actually fabricated.
- spatial light modulator /
- gray-scale mask /
- manufacture technics /
- binary optics

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