CO2激光辐照下光学薄膜的温度场与热畸变

杨富; 黄伟; 张彬; 楚晓亮; 刘志国; 蔡邦维

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CO2激光辐照下光学薄膜的温度场与热畸变

杨富 , 黄伟 , 张彬 , 楚晓亮 , 刘志国 , 蔡邦维

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引用本文:

Citation:

CO2激光辐照下光学薄膜的温度场与热畸变

1.
四川大学, 电子信息学院, 成都, 610064;
2.
河北北方学院, 物理系, 张家口, 075028;
3.
中国科学院, 光电技术研究所, 双流, 610209

作者简介: 杨富(1971- ),男,硕士,讲师,主要从事激光物理与激光技术和光电检测技术研究,E-mail:zhangbinff@sohu.com.

中图分类号: O432.2;O484

Temperature field distribution and thermal distortion of thin film coatings irradiated by CO2 laser

1.
College of Electronic Information, Sichuan University, Chengdu 610064, China;
2.
Department of Physics, Hebei Northern College, Zhang Jiakou 075028, Chian;
3.
Institute of Optics & Electronics, the Chinese Academy of Sciences, Shuangliu 610209, China
CLC number: O432.2;O484

摘要: 介绍了光学薄膜温度场的基本理论,利用交替隐型技术,对10.6μm激光辐照下介质薄膜的温度场分布进行了数值模拟和理论分析。在此基础上,利用夏克-哈特曼波前传感器对介质基底样品、不同厚度的介质单层膜样品以及不同膜系的YbF3/ZnSe介质多层膜样品在10.6μmCO2激光辐照下的热畸变进行了实验研究。研究结果表明,激光辐照下光学薄膜样品的温度场分布与辐照激光的光场分布、激光功率以及激光的辐照时间等因素有关。对于10.6μm激光而言,Ge最适宜做基底材料。
- 光学薄膜 /
- 温度场 /
- 热畸变 /
- 10.6μm激光
Abstract: The basic theory of the temperature field of optical thin films is given.The temperature field distribution of dielectric thin films irradiated by 10.6μm CO2 lasers has been simulated numerically and analyzed theoretically using alternating direction-implicit technique.Using the Shack-Hartmann wavefront sensor,the thermal distortion of the substrate,the single-layer dielectric thin films with different thickness,and the multi-layer dielectric thin films with different multilayer thin films(YbF3/ZnSe)irradiated by CO2 laser are studied experimentally.It can be shown that the temperature field distribution of thin film coatings irradiated by lasers deperds on the field distribution,power and irradiating time of lasers.For the 10.6μm laser,Ge is the most suitable substrate material.
- optical thin films /
- temperature field /
- thermal distortion /
- 10.6μm laser

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CO2激光辐照下光学薄膜的温度场与热畸变

作者简介: 杨富(1971- ),男,硕士,讲师,主要从事激光物理与激光技术和光电检测技术研究,E-mail:zhangbinff@sohu.com

1. 四川大学, 电子信息学院, 成都, 610064;
2. 河北北方学院, 物理系, 张家口, 075028;
3. 中国科学院, 光电技术研究所, 双流, 610209

收稿日期: 2003-06-03
录用日期: 2003-11-07
网络出版日期: 2004-05-25

关键词:

摘要: 介绍了光学薄膜温度场的基本理论,利用交替隐型技术,对10.6μm激光辐照下介质薄膜的温度场分布进行了数值模拟和理论分析。在此基础上,利用夏克-哈特曼波前传感器对介质基底样品、不同厚度的介质单层膜样品以及不同膜系的YbF3/ZnSe介质多层膜样品在10.6μmCO2激光辐照下的热畸变进行了实验研究。研究结果表明,激光辐照下光学薄膜样品的温度场分布与辐照激光的光场分布、激光功率以及激光的辐照时间等因素有关。对于10.6μm激光而言,Ge最适宜做基底材料。