脉冲激光沉积技术及其应用

陈传忠; 包全合; 姚书山; 雷廷权

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脉冲激光沉积技术及其应用

陈传忠 , 包全合 , 姚书山 , 雷廷权

文章导航 > 激光技术 > 2003 > 27(5): 443-446

引用本文:

Citation:

脉冲激光沉积技术及其应用

1.
山东大学材料科学与工程学院, 济南, 250061;
2.
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院, 哈尔滨, 150001

作者简介: 陈传忠,男,1963年2月出生.博士,教授.主要从事材料表面激光强化与改性研究..

基金项目:
山东省优秀中青年科学家奖励基金资助项目
中图分类号: TN249

Pulsed laser deposition and its application

1.
School of Materials Science and Engineering, Shandong University, Jinan, 250061;
2.
School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001
CLC number: TN249

摘要: 薄膜材料已在微电子元件、超导材料、生物材料等方面得到广泛应用,为了得到高质量的薄膜材料,脉冲激光沉积技术受到了广泛的关注。介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点,综述了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、铁电、生物陶瓷薄膜等方面的应用和研究现状,展望了该项技术的应用前景。
- 脉冲激光沉积 /
- 薄膜 /
- 应用 /
- 研究现状
Abstract: Thin film materials have been widely used in micro electronics,superconductor,and bioceramics materials. In order to obtain high quality thin films,deposition have attracted more attention. In this paper the principle,the characteristics of the pulsed laser deposition technique are introduced. Its applications in semiconductor,high temperature superconductor,diamondlike,ferroelectric and bioceramics thin films and its current research status are reviewed. The future application trend is prospected.
- pulsed laser deposition /
- thin film /
- application /
- current research status

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