激光抛光化学气相沉积金刚石膜

季国顺; 张永康

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激光抛光化学气相沉积金刚石膜

季国顺 , 张永康

文章导航 > 激光技术 > 2003 > 27(2): 106-109

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激光抛光化学气相沉积金刚石膜

1.
江苏大学激光技术研究所, 镇江, 212013

作者简介: 季国顺,男,1973年10月出生.助理工程师.现从事激光应用、MEMS建模偏真技术研究..

中图分类号: TN249;TB32

Laser polishing of chemically vapor-deposited diamond films

1.
Institute of Laser Technology of Jiangsu University, Zhenjiang, 212013
CLC number: TN249;TB32

摘要: 讨论了激光抛光金刚石膜机理、影响因素,分析了激光抛光金刚石膜理论模型、激光抛光后金刚石膜的粗糙度极限,提出要实现金刚石膜特别是厚膜的精密抛光须考虑激光辅助复合抛光或其它抛光工艺。
- CVD金刚石膜 /
- 激光抛光 /
- 表面粗糙度
Abstract: The principle and affecting factors of laser polishing of diamond films are discussed.The theoretical model of laser polishing of diamond films and surface roughness of laser-polished diamond films are analysed.The composited polishing idea is proposed for fine polishing of diamond films,especially of thick fims.
- CVD diamond films /
- laser polishing /
- surface roughness

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