表面钝化技术对光学灾变的影响的研究

程东明; 刘云; 王立军

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表面钝化技术对光学灾变的影响的研究

程东明 , 刘云 , 王立军

文章导航 > 激光技术 > 2003 > 27(1): 14-15

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表面钝化技术对光学灾变的影响的研究

1.
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 长春, 130021;
2.
中国科学院激发态物理开放实验室, 长春, 130021

作者简介: 程东明,男,1976年出生.博士研究生.主要从事半导体大功率激光器的研究..

基金项目:
中国科学院重大项目;吉林省科委资助;中国科学院“十五”重大支持项目
中图分类号: TN248.4

Research of influence of surface passivation on catastrophic optical damage

1.
Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, the Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130021;
2.
Laboratory of Excited-state Physics, the Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130021
CLC number: TN248.4

摘要: 介绍了对半导体激光器的腔面进行钝化处理的方法,分别采用几种不同的试剂对腔面进行处理,得出不同的结果。实验表明,用P2S5/NH4OH和(NH4)2Sx共同处理的样品在较高功率时开始发生光学灾变。
- 半导体 /
- 半导体激光器 /
- 光学灾变 /
- 表面钝化
Abstract: Several methods of the passivation of semiconductor laser facets are introduced. Using the technology of facet passivation,the authors treated semiconductor laser facets with several materials. It is found that the samples treated by P2S5/NH4OH and (NH4)2Sx have catastrophic optical damage (COD) at high output power.
- semiconductor /
- semico nductor lasers /
- catastrophic optical damage(COD) /
- facet passivation

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