ArF准分子激光光刻的研究现状

宋登元

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ArF准分子激光光刻的研究现状

宋登元

文章导航 > 激光技术 > 1999 > 23(5): 288-291

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ArF准分子激光光刻的研究现状

宋登元

1.
河北大学电子工程学院, 保定 071002

作者简介: 宋登元,男,1957年出生。副教授,教研室主任。目前主要研究领域是半导体物理与器件工艺。.

Research status of deep ultraviolet lithography with 193nm excimer-laser

Song Dengyuan

1.
College of Electronics Engineering, Hebei University, Baoding, 071002

摘要: 193nmArF准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点。作者从193nm激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用。
- 光刻 /
- 准分子激光 /
- VLSI
Abstract: The optical lithography using the 193nm excimer-laser is a key technique for decreasing feature size of very large scale integration(VLSI) at the beginning of the next century and has become one of the chal lenge topics in the high-tech research areas.The optical system design,optics materials, excimer-laser source,resists for 193nm and its application in fabrication of CMOS devices are described in this paper.
- lithography /
- excimer laser /
- VLSI

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