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Ar+激光器用于电阻微调的研究

秦水介, 张正平

秦水介, 张正平. Ar+激光器用于电阻微调的研究[J]. 激光技术, 1997, 21(3): 178-181.
引用本文: 秦水介, 张正平. Ar+激光器用于电阻微调的研究[J]. 激光技术, 1997, 21(3): 178-181.
Qin Shuijie, Zhang Zhengping. Utilization of Ar+ laser for resistance trimming[J]. LASER TECHNOLOGY, 1997, 21(3): 178-181.
Citation: Qin Shuijie, Zhang Zhengping. Utilization of Ar+ laser for resistance trimming[J]. LASER TECHNOLOGY, 1997, 21(3): 178-181.

Ar+激光器用于电阻微调的研究

详细信息
    作者简介:

    秦水介,女,1963年10月出生.讲师,系副主任.近年来从事近代光学及激光应用等方面的教学和研究工作.

Utilization of Ar+ laser for resistance trimming

  • 摘要: 本文讨论并研究了Ar+激光器用于电阻微调的优越性。结果表明,在比常用的Nd:YAG激光功率小得多的情况下,可得到与之相当的刻线宽度和阻值稳定性。
    Abstract: The resistance trimming often use a CO2 laser or Nd:YAG laser as a light source.And the Ar+ laser has shorter wavelength than Nd:YAG and CO2 laser.The reflection index of melt film is smaller for 514.5nm wavelength and it is easy to build a better optical system to provide precise resistance trimming.This paper described the trimming system and summarized much practical data.
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出版历程
  • 收稿日期:  1996-11-03
  • 发布日期:  1997-05-24

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