用激光干涉法实时监控同轴磁控溅射ZnO薄膜的厚度

谢克诚

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用激光干涉法实时监控同轴磁控溅射ZnO薄膜的厚度

谢克诚

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用激光干涉法实时监控同轴磁控溅射ZnO薄膜的厚度

谢克诚

1.
四川压电与声光技术研究所永川

作者简介: 谢克诚,男,1953年10月出生.工程师.现从事光学分析等工作..

Real-time monitoring the thickness of ZnO film in isoaxis magnetron sputtering using laser interferometry

Xie Kecheng

1.
Sichuan Institute of Piezoelectric and Acousto-Optic Technology

摘要: 本文介绍了一种在我所生产的TCJ-300型同轴磁控溅射设备上采用激光实时监控ZnO薄膜厚度的方法.实验结果表明,该方法与其它膜厚监控方法相比较具有多种优点:它可以在溅射过程中实时显示薄膜的厚度、均匀性和溅射速率等;本实验装置简单;操作方便;其监控精度优于1.5%.
Abstract: this paper presents a new method of real-time monitoring the thickness of ZnO film in isoaxis magnetron sputtering device with laser.TCJ-300 type isoaxis magnetron sputter machine is made in our institute.The experimental results show that this method has more adwantages than other methods of monitoring film thickness have.It can show the homogeneity and the thickness of the film as well as the sputtering velocity in process of sputtering.The experimental set and its operation are simple.The monitoring accuracy of the thick of film is better than 1.5%.

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