激光辅助固态薄膜淀积技术的进展

宋登元

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激光辅助固态薄膜淀积技术的进展

宋登元

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激光辅助固态薄膜淀积技术的进展

宋登元

1.
河北大学电子系, 保定

作者简介: 宋登元,男,1957年出生。讲师。现从事激光辅助半导体器件和超导器件工艺的研究。.

Advances in deposition techniques of laser-assisted solid state thin film

Song Dengyuan

1.
Department of Electronics, Hebei University

摘要: 本文综述了近年来激光辅助固态薄膜淀积技术的进展。简要概述了脉冲激光蒸发淀积(PLED)和激光诱导化学气相淀积(LCVD)的基本原理、淀积系统和激光器。侧重详细介绍了这种技术在制备微电子器件所需要的高Tc超导体膜、金属膜、半导体膜和介质膜中的应用。
Abstract: This atticle reviews recent advances in deposition technique of laser-assisted solid state thin films.The basic principles, deposition systems and laser sources of pulsed laser evaporation deposition(PLED) and laser-induced chemical vapor deposition(LCVD) are simply introduce.Applications of this technique in preparing the thin films,such as high-T.superconductive films,metallic films,semi-conductive films and insulation films,used in microelectronic elements are thoroughly presented.

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