灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究

[1]

金国藩,严瑛白,邬敏贤 et al.二元光学 [M].北京:国防工业出版社,1998.298～335.

[2]

MICHAEL R W,SU H.Laser direct-write gray-level mask and one-step etching for diffractive microlens fabrication [J].Appl Opt,1998,37(32):7568～7576.

[3]

REIMER K,QUENZER H J.Micro-optic fabrication using one-level gray-tone lithography [J].SPIE,1997,3008:279～288.

[4]

DONALD C O,WILLIE S R.Gray-scale masks for diffractive-optics fabrication:Ⅱ Spatially filtered halftone screens [J].Appl Opt,1995,34(32):7518～7526.

[5]

颜树华,戴一帆,吕海宝 et al.基于空间光调制器的灰度掩模制作系统 [J].中国激光,2004,31(1):45～47.

[6]

章毓晋.图像工程(上册)-图像处理和分析 [M].北京:清华大学出版社,1999.43～50.

[7]

吴若薇.制版感光材料 [M].北京:印刷工业出版社,1989.179～217,235～242.