双复眼透镜间相对位置误差对光束匀化的影响

黄威; 尉昊赟; 李岩

doi:10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2013.O1.003

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双复眼透镜间相对位置误差对光束匀化的影响

黄威 , 尉昊赟 , 李岩

文章导航 > 激光技术 > 2013 > 37(1): 11-15

引用本文:

Citation:

双复眼透镜间相对位置误差对光束匀化的影响

1.
清华大学精密仪器与机械学系精密测试技术及仪器国家重点实验室, 北京 100084

作者简介: 黄威(1987- ),男,硕士研究生,主要从事光学设计方而的研究..

通讯作者: 李岩, liyan@mail.tsinghua.edu.cn

基金项目:
国家重大科技专项基金资助项目(2009ZX02037-002)
中图分类号:
TN202

Effect of relative position error in microlens arrays pair on beam homogenization

1.
State Key Laboratory of Precision Measurement Technology and Instruments, Department of Precision Instruments and Mechanology, Tsinghua University, Beijing 100084, China

Corresponding author: LI Yan, liyan@mail.tsinghua.edu.cn

CLC number:
TN202

摘要: 为了在激光退火工作面上获得高均匀度光斑,研究了双复眼透镜阵列光束匀化法中两透镜阵列间相对位置变化对匀化性能的影响.利用光线追迹方法,模拟了双复眼透镜阵列间6个自由度的相对位置误差与光束匀化效果的依赖关系,发现第二复眼透镜阵列的滚转角偏差是影响光束匀化质量的最敏感因素.为实现较好的匀化效果,需要对复眼透镜阵列位置进行精确控制.结果表明,使用专用镜架对透镜位置进行精确控制后,光束均匀度达到0.039.该系统成功应用于激光退火装置,实现了超浅结激光退火.
- 光学设计与制造 /
- 光束匀化 /
- 仿真与实验 /
- 激光退火
Abstract: In order to obtain a working beam profile with high uniformity by microlens arrays pair in laser annealing equipment the elfect of relative position error of arrays pair was investigated.The dependence of the beam uniformity on the sixdegrees of freedom between two arrays was simulated with ray tracing method.It is found that the beam homogenization is most sensitive to roll angle error of the second array and precise control of relative position of two arrays is needed.The experimentresults indicate that with the aid of special lens mounts,the relative position of two arrays.an he controlled precisely and a flattop beam profile with beam uniformity of 0.039 is obtained as well.The laser annealing experiment for ultra shallow junction formation is demonstrated by this homogeneous beam successfully.
- optical design and fabrication /
- beam homogenization /
- simulation and experiment /
- laser annealing

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双复眼透镜间相对位置误差对光束匀化的影响

通讯作者: 李岩, liyan@mail.tsinghua.edu.cn

作者简介: 黄威(1987- ),男,硕士研究生,主要从事光学设计方而的研究.

1. 清华大学精密仪器与机械学系精密测试技术及仪器国家重点实验室, 北京 100084

收稿日期: 2012-04-20
录用日期: 2012-05-09
网络出版日期: 2013-01-25

基金项目: 国家重大科技专项基金资助项目(2009ZX02037-002)

关键词:

摘要: 为了在激光退火工作面上获得高均匀度光斑,研究了双复眼透镜阵列光束匀化法中两透镜阵列间相对位置变化对匀化性能的影响.利用光线追迹方法,模拟了双复眼透镜阵列间6个自由度的相对位置误差与光束匀化效果的依赖关系,发现第二复眼透镜阵列的滚转角偏差是影响光束匀化质量的最敏感因素.为实现较好的匀化效果,需要对复眼透镜阵列位置进行精确控制.结果表明,使用专用镜架对透镜位置进行精确控制后,光束均匀度达到0.039.该系统成功应用于激光退火装置,实现了超浅结激光退火.