CO2激光等离子体极紫外光源收集镜研究

朱新旺; 王新兵; 傅焰峰; 卢彦兆; 石玉华

doi:10.3969/j.issn.1001-3806.2010.06.002

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CO2激光等离子体极紫外光源收集镜研究

朱新旺 , 王新兵 , 傅焰峰 , 卢彦兆 , 石玉华

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引用本文:

Citation:

CO2激光等离子体极紫外光源收集镜研究

1.
华中科技大学, 武汉光电国家实验室, 武汉, 430074;
2.
武汉光讯科技股份有限公司, 武汉, 430074

作者简介: 朱新旺(1984- ),男,硕士研究生,现主要研究极紫外光刻和光学系统的设计..

通讯作者: 王新兵, xbwang@mail.hust.edu.cn ;

基金项目:
国家科技重大专项基金资助项目
中图分类号: TN249

Research of collector mirrors of CO2 laser produced plasma EUV source

1.
Wuhan National Laboratory for Optoelectronics, Huazhong University of Science of Technology, Wuhan 430074, China;
2.
Accelink Technologies Co. Ltd., Wuhan 430074, China

Corresponding author: WANG Xin-bing, xbwang@mail.hust.edu.cn ;

CLC number: TN249

摘要: 为了研究极紫外光源系统中收集镜的形状和液体微滴的漂移,计算了收集镜的参量,并采用ZEMAX模拟了液体微滴上下和左右漂移50μm,100μm,150μm时中间焦点的成像变化情况。结果表明,液体微滴在上下方向上的漂移对中间焦点成像的影响很大,应该尽量将上下漂移控制在20μm以下;而液滴在光轴方向上的漂移对中间焦点成像的影响稍小。
- 激光技术 /
- X射线光学 /
- 极紫外光源 /
- 激光等离子体 /
- 收集镜 /
- ZEMAX
Abstract: In order to study the shape of the extreme ultraviolet(EUV) collector mirror and liquid droplets drift of the EUV light source system,the parameters for the collector mirror were calculated.The images of the intermediate focus were simulated with ZEMAX when the liquid droplets drifted 50μm,100μm,150μm from top to bottom and from left to right.The results show that the drift of the liquid micro-droplets in the upper and the lower direction have great influence on the imaging of the intermediate focus point,the drift should be controlled below 20μm in this direction,and the drift of the liquid micro-droplets in the optical axis direction have smaller influence on the imaging of the intermediate focus point.
- laser technique /
- X-ray optics /
- extreme ultraviolet source /
- laser produced plasma /
- collector mirror /
- ZEMAX

[1]	ZHANG F Ch,LI Y Q.Development of laser produced plasma source for EUV lithography[J].Microfabrication Technology,2006(5):1-7(in Chinese).
[2]	DAVID C B,IGOR V F,ALEX I E,et al.Laser procuced plasma source system development[J].Proc SPIE,2008,7140:71401E/1-71401E/11.
[3]	TAKSSHI S,GEORG S,MASATO M,et al.Evaluation at the intermediate focus for EUV light source[J].Proc SPIE,2009,7271:727133/1-727133/8.
[4]	CHENG Y L,LI S N,WANG Q.Extreme ultraviolet source of microlithography based on laser induced plasma and discharge induced plasma[J].Laser Technology,2004,28(6):561-564(in Chinese).
[5]	LIU P,WANG Q,LI S N.Progress of X-ray laser in capillary discharge.[J].Laser Technology,2001,25(3):178-182(in Chinese).
[6]	BJORN A M H,LARS R,MAGNUS B,et al.Status of the liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography[J].Proc SPIE,2002,4688:102-109.
[7]	MASAYUKI S,NORIAKI K,KATSUHIKO M,et al.Low-stress and high-reflective molybdemum/silicon multilayers deposited by low-pressure rotary magnet cathode sputtering for EUV lithography[J].Proc SPIE,2004,5374:104-111.
[8]	NORBERT R,ALEX I E,WILLIAM F M,et al.EUV source collector[J].Proc SPIE,2006,6151:61513R/1-61513R/9.
[9]	AKIRA E,HIROSHI K,YOSHIFUMI U,et al.Laser produced plasma source development for EUV lithography[J].Proc SPIE,2009,7271:727108/1-727108/7.

[1]	陈国 , 赵长明 , 纪荣祎 , 李鲲 , 罗雄 , 白羽 . 基于ZEMAX的半导体激光准直仿真设计. 激光技术, 2012, 36(3): 318-321,325.
[2]	黄珊 , 邓磊敏 , 杨焕 , 段军 . 基于ZEMAX的半导体激光器匀光设计. 激光技术, 2014, 38(4): 522-526. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2014.04.017
[3]	程元丽 , 李思宁 , 王骐 . 激光等离子体和气体放电EUV光刻光源. 激光技术, 2004, 28(6): 561-564.
[4]	陈德章 , 高建波 , 叶景峰 , 路英宾 , 王晟 , 卿光弼 , 王立君 , 陈亦庆 . 纳秒紫外激光空气电离及等离子体导电实验研究. 激光技术, 2008, 32(3): 262-264.
[5]	钱天 , 陆健 , 唐懋 , 张冲 , 张宏超 . 飞秒激光致双液滴光学击穿和等离子体分布研究. 激光技术, 2023, 47(2): 193-199. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2023.02.006
[6]	罗锦锋 , 宋世军 , 王平秋 , 刘全喜 . 激光等离子体对硅表面微纳粒子除去机理研究. 激光技术, 2018, 42(4): 567-571. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2018.04.025
[7]	刘笑兰 , 李晓卿 . 超强激光等离子体中的相对论性朗缪尔孤子. 激光技术, 2013, 37(5): 627-630. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2013.05.014
[8]	倪晓武 , 陆建 , 贺安之 , 王平秋 , 马孜 , 周九林 . 高功率激光对光学介质薄膜破坏机理的研究进展. 激光技术, 1994, 18(6): 348-352.
[9]	刘锴 , 范卫星 , 王平秋 , 富星桥 , 杨超 , 韩敬华 . 激光等离子体法清洗微纳颗粒的物态变化研究. 激光技术, 2021, 45(4): 405-410. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2021.04.001
[10]	陈建平 , 倪晓武 , 陆建 , 卞保民 , 王亚伟 . 用于探测激光等离子体冲击波的光纤传感器. 激光技术, 2001, 25(2): 85-90.
[11]	邹彪 , 陈建平 , 倪晓武 . 强激光等离子体有关物理量的声学测量. 激光技术, 2000, 24(6): 366-369.
[12]	强希文 , 屠琴芬 . 激光与高Z介质耦合的参量分析. 激光技术, 2000, 24(5): 306-311.
[13]	王成程 , 袁晓东 , 秦兴武 , 陈清海 , 党钊 , 唐晓东 , 魏晓峰 , 郑万国 . 星光Ⅱ高功率固体激光驱动器研究的新进展. 激光技术, 2004, 28(5): 469-471,475.
[14]	李志刚 , 王声波 , 郭大浩 , 吴鸿兴 , 戴宇生 . 强激光引导和诱发大气高压放电研究. 激光技术, 1999, 23(6): 332-334.
[15]	姜红 , 王欣 , 徐乐乐 , 朱晓晗 . X射线荧光光谱结合多元统计学检验纸张灰烬. 激光技术, 2021, 45(3): 318-321. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2021.03.009
[16]	田师思 , 姜红 , 齐恒慧 , 王一端 , 满吉 . X射线荧光光谱法结合优化k均值检验墨粉的研究. 激光技术, 2021, 45(4): 530-534. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2021.04.019
[17]	袁金豪 , 张南峰 , 阮洁珊 , 高向东 . 基于改进YOLOX算法的X射线图像违禁品检测方法. 激光技术, 2023, 47(4): 547-552. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2023.04.016
[18]	陆建 , 倪晓武 , 贺安之 . LSD波点燃和初始阶段传播的光学干涉研究. 激光技术, 1996, 20(2): 73-77.
[19]	张新陆 , 程元丽 , 王骐 . X射线激光在柱状等离子体中的传播与放大. 激光技术, 2002, 26(3): 221-222.
[20]	刘利锋 , 肖沙里 , 钱家渝 . 基于球面晶体背光成像系统的性能模拟研究. 激光技术, 2017, 41(1): 6-9. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2017.01.002

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CO2激光等离子体极紫外光源收集镜研究

通讯作者: 王新兵, xbwang@mail.hust.edu.cn;

作者简介: 朱新旺(1984- ),男,硕士研究生,现主要研究极紫外光刻和光学系统的设计.

1. 华中科技大学, 武汉光电国家实验室, 武汉, 430074;
2. 武汉光讯科技股份有限公司, 武汉, 430074

收稿日期: 2010-01-14
录用日期: 2010-02-02
网络出版日期: 2010-11-25

基金项目: 国家科技重大专项基金资助项目

关键词:

摘要: 为了研究极紫外光源系统中收集镜的形状和液体微滴的漂移,计算了收集镜的参量,并采用ZEMAX模拟了液体微滴上下和左右漂移50μm,100μm,150μm时中间焦点的成像变化情况。结果表明,液体微滴在上下方向上的漂移对中间焦点成像的影响很大,应该尽量将上下漂移控制在20μm以下;而液滴在光轴方向上的漂移对中间焦点成像的影响稍小。