硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究

崔品静; 程兆谷

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硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究

崔品静 , 程兆谷

文章导航 > 激光技术 > 2006 > 30(6): 561-563,580

引用本文:

Citation:

硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究

崔品静^1,2,
程兆谷^1, ,

1.
中国科学院, 上海光学精密机械研究所, 上海, 201800;
2.
中国科学院, 研究生院, 北京, 100039

作者简介: 崔品静(1980- ),女,硕士研究生,主要从事硅片缺陷自动检测仪的研究..

通讯作者: 程兆谷, zgcheng@163.com

基金项目:
上海市光科技专项行动计划“硅片缺陷自动检测仪研制”资助项目(036105026)
中图分类号: O436.2

Calculation and analysis of light scattering and differential scattering cross section from a spherical particle on silicon wafer

CUI Pin-jing^1,2,
CHENG Zhao-gu^1, ,

1.
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, the Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China;
2.
Graduate School of the Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China

Corresponding author: CHENG Zhao-gu, zgcheng@163.com

CLC number: O436.2

摘要: 为了研究硅片表面球形粒子的光散射情况,根据Mie氏理论,采用相差模型,得到了球形粒子在任意线偏振光照射下的散射光光强空间分布的计算方法,给出了球形粒子在s偏振和p偏振光分别以0°和70°角照射下散射光微分散射截面的模拟计算结果,并与相关的实验结果进行了比较,对硅片缺陷自动检测仪的研制具有指导意义。
- 散射 /
- 光强空间分布 /
- 米氏理论 /
- 相差模型 /
- 微分散射截面
Abstract: Based on Mie theory,the phase difference model for calculating and analyzing the spatial distribution of scattering intensity from a spherical particle on a smooth surface radiated by a linearly polarized light beam is obtained.The differential scattering cross section is calculated when the s and p polarized light irritates the particles at 0° and 70° respectively.The calculation results are compared with experimental results.

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硅片表面球形粒子散射及微分散射截面的研究

崔品静^1,2
程兆谷^1, ,

通讯作者: 程兆谷, zgcheng@163.com

作者简介: 崔品静(1980- ),女,硕士研究生,主要从事硅片缺陷自动检测仪的研究.

1. 中国科学院, 上海光学精密机械研究所, 上海, 201800;
2. 中国科学院, 研究生院, 北京, 100039

收稿日期: 2005-10-12
录用日期: 2005-12-12
网络出版日期: 2006-11-25

基金项目: 上海市光科技专项行动计划“硅片缺陷自动检测仪研制”资助项目(036105026)

关键词:

摘要: 为了研究硅片表面球形粒子的光散射情况,根据Mie氏理论,采用相差模型,得到了球形粒子在任意线偏振光照射下的散射光光强空间分布的计算方法,给出了球形粒子在s偏振和p偏振光分别以0°和70°角照射下散射光微分散射截面的模拟计算结果,并与相关的实验结果进行了比较,对硅片缺陷自动检测仪的研制具有指导意义。