ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备

沈自才; 孔伟金; 宋永香; 汤兆胜; 范正修

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ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备

沈自才 , 孔伟金 , 宋永香 , 汤兆胜 , 范正修

文章导航 > 激光技术 > 2005 > 29(1): 101-103

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Citation:

ZrO2/SiO2棱镜偏振膜的膜系优化设计与制备

1.
中国科学院, 上海光学精密机械研究所, 上海, 201800

作者简介: 沈自才(1980- ),男,硕士研究生,主要从事渐变折射率薄膜(非均匀膜)和偏振技术研究.范正修,通讯联系人.E-mail:xzfan@film.com;沈自才(1980- ),男,硕士研究生,主要从事渐变折射率薄膜(非均匀膜)和偏振技术研究.范正修,通讯联系人.E-mail:xzfan@film.com.

通讯作者: 范正修, xzfan@fiml.com

中图分类号: O484.4

The optimum design and preparation of ZrO2/SiO2 polarizing film

1.
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, the Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China

Corresponding author: FAN Zheng-xiu, xzfan@fiml.com

CLC number: O484.4

摘要: 对以K9玻璃为基底,采用ZrO2和SiO2为高低膜料来制备棱镜偏振膜,并进行膜系优化设计.设计指标为:波长540nm处满足Tp>99%,Ts13H3LH为最佳膜系.测试结果表明,此膜系完全满足设计指标,偏振性能优良.探讨了参考波长对偏振膜工作带宽的影响.
- 棱镜 /
- 偏振膜 /
- 优化 /
- 带宽
Abstract: The polarizing prism film is optimized using K9 substrate and ZrO2,SiO2 thin film material.Designing aim is Tp>99% and Ts13 H3LH is best for the above design aim.The test shows that the film has excellent polarizing character.Then the influence of reference wavelength on polarizing film is discussed.
- prism /
- polarizing film /
- optimization /
- bandwidth

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