脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展

敖育红; 胡少六; 龙华; 徐业斌; 王又青

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脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展

敖育红 , 胡少六 , 龙华 , 徐业斌 , 王又青

文章导航 > 激光技术 > 2003 > 27(5): 453-456,459

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脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展

1.
华中科技大学激光技术国家重点实验室, 武汉, 430074

作者简介: 敖育红,女,1976年5月出生.硕士研究生.从事准分子脉冲激光沉积薄膜技术方面的研究工作..

中图分类号: O484.1

Study on pulsed laser deposition technology

1.
National Laboratory of Laser Technology, HUST, Wuhan, 430074
CLC number: O484.1

摘要: 脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的制膜技术。陈述了其原理、特点、研究方法,总结了超快脉冲激光、脉冲激光真空弧、双光束脉冲激光沉积等最新的PLD薄膜制备技术研究进展。
- 超快脉冲激光沉积 /
- 双光束脉冲激光沉积 /
- 脉冲激光真空弧薄膜制备 /
- 薄膜技术
Abstract: The processes of pulsed laser deposition(PLD) technology,one of the most attractive thin film preparation methods,are described. The properties are listed in contrast with other methods. The fundamental approaches and the latest appropriate developments in PLD with ultra-fast pulsed laser,pulsed-laser-arc,and dual-beam lasers are discussed in detail.
- ultra-fast pulsed laser deposition /
- dual-beam lasers /
- pulsed laser vacuum arc /
- thin technology

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