脉冲激光扫描淀积类金刚石薄膜

王秋良; 王又青; 安承武

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脉冲激光扫描淀积类金刚石薄膜

王秋良 , 王又青 , 安承武

文章导航 > 激光技术 > 1998 > 22(2): 77-79

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脉冲激光扫描淀积类金刚石薄膜

1.
华中理工大学激光技术国家重点实验室, 武汉, 430074

作者简介: 王秋良,男,1967年出生。副教授,留日博士后。现从事激光沉积薄膜研究。.

Pulsed laser scanning deposition of diamondlike thin films

1.
National Laboratory of Laser Technology, HUST, Wuhan, 430074

摘要: 采用能量密度为1.178×109W/cm2的XeCl准分子激光直接辐照高纯度的石墨靶,并同时采用辅助放电,在1×10-5Torr的真空环境中,于温度为80℃的Si(100)的基片上淀积出类金刚石薄膜,Raman光谱显示在1330cm-1处出现较强的散射峰值;对薄膜红外光谱进行测试,其光谱在2900cm-1处有吸收峰,表明所淀积的类金刚石薄膜含有C-H键,其H元素与C元素的比为45%.薄膜的电阻率为1.89×106Ω/cm,通过光吸收测得的该薄膜的能隙为1.55eV.
- 脉冲激光 /
- 类金刚石薄膜 /
- Raman光谱
Abstract: The diamondlike thin films were prepared by irradiation on high pure graphite with a high energy density(1.178×109W/cm2) laser (XeCl 308nm) in 1×105Torr vacuum.The Raman spectra shows the thin film has the properties of diamond,the scatter peak is 1330cm-1.The IR spectra shows the thin film contained C-H bound,and the ratio of H to C is about 45%.The resistivity and optical energy gap of the thin film are 1.89×106Ω/cm and 1.55eV,respectively.
- pulsed-laser deposition /
- diamondlike thin film /
- Raman spectra

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脉冲激光扫描淀积类金刚石薄膜

作者简介: 王秋良,男,1967年出生。副教授,留日博士后。现从事激光沉积薄膜研究。

1. 华中理工大学激光技术国家重点实验室, 武汉, 430074

收稿日期: 1996-10-08
录用日期: 1997-08-06
网络出版日期: 1998-03-25

关键词:

摘要: 采用能量密度为1.178×109W/cm2的XeCl准分子激光直接辐照高纯度的石墨靶,并同时采用辅助放电,在1×10-5Torr的真空环境中,于温度为80℃的Si(100)的基片上淀积出类金刚石薄膜,Raman光谱显示在1330cm-1处出现较强的散射峰值;对薄膜红外光谱进行测试,其光谱在2900cm-1处有吸收峰,表明所淀积的类金刚石薄膜含有C-H键,其H元素与C元素的比为45%.薄膜的电阻率为1.89×106Ω/cm,通过光吸收测得的该薄膜的能隙为1.55eV.