等离子体辅助镀膜

范卫星; 郝尧; 卢玉村; 陈建国

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等离子体辅助镀膜

范卫星 , 郝尧 , 卢玉村 , 陈建国

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等离子体辅助镀膜

1.
四川大学光电科学技术系, 成都, 610064

作者简介: 范卫星.男.1970年4月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面研究工作;郝尧.男,1970年11月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面的研究工作.;范卫星.男.1970年4月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面研究工作;郝尧.男,1970年11月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面的研究工作..

Ion-assisted deposition using a new plasma source

1.
Department of optoelectronics Science and Technology, Sichuan University

摘要: 本文介绍了等离子体辅助镀膜技术以及相应的高真空等离子体源.这种新型等离子体源属于空心冷阴极结构,工作气压在1×10-3pa～10-1pa,它的最大优点在于能够直接电离氧化性气体而不烧毁阴极.采用探针法测定了氩等离子体中辅助离子的能量范围在50～80Ve之间,并在氩气、氧气的等离子体中分别沉积了单层ZnS薄膜和SiO2薄膜.实验结果表明,生成的薄膜具有良好的光学和机械性能.
- 薄膜 /
- 等离子体 /
- 成膜方法 /
- 离子辅助成膜
Abstract: The principles of plasma ion-assisted deposition(IAD)and a new high vacuum plasma sotirce are introduced.With a hollow cold cathode discharge,the plasma sotirce can be operated in ambient pressure from 1×10-3pa to 1×10-1pa,the reactive gas and the nonreactive gas can be used as working gas.The energy of Ar- in argon plasma,h1eatstired with a Longmuir probe,is 50～80eV,depending on pressure and discharge current density.It has been experimentally confirmed that both the optical properties and mechanical properties of single-layer films of ZnS and SiO2 prepared in argon plasma and oxygen plasma have been improved considerably as compared to those films obtained with traditional vapor deposition.
- films /
- plasma /
- deposition methode /
- ion-assisted deposition

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等离子体辅助镀膜

作者简介: 范卫星.男.1970年4月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面研究工作;郝尧.男,1970年11月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面的研究工作.;范卫星.男.1970年4月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面研究工作;郝尧.男,1970年11月出生.硕士研究生.现从事薄膜光学和技术方面的研究工作.

1. 四川大学光电科学技术系, 成都, 610064

收稿日期: 1993-08-03
网络出版日期: 1994-01-25

关键词:

摘要: 本文介绍了等离子体辅助镀膜技术以及相应的高真空等离子体源.这种新型等离子体源属于空心冷阴极结构,工作气压在1×10-3pa～10-1pa,它的最大优点在于能够直接电离氧化性气体而不烧毁阴极.采用探针法测定了氩等离子体中辅助离子的能量范围在50～80Ve之间,并在氩气、氧气的等离子体中分别沉积了单层ZnS薄膜和SiO2薄膜.实验结果表明,生成的薄膜具有良好的光学和机械性能.