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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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低浓度镓扩散

浦树德

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低浓度镓扩散

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出版历程
  • 收稿日期:  1982-09-07
  • 刊出日期:  1983-03-25

低浓度镓扩散

摘要: 本文之介绍一种获得表面浓度为1015~1018厘米-3范围的扩散方法.通过采用GeGa合金杂质源、改进的石英爰架和杂质源舟、在Si片上附加保护层,使P层的R口最小误差达到0.9%,大大提高了扩散层参数的控制精度和表面质量.这种工艺应用于一种目前国际上最新型的1.06微米激光探测器的研制,已取得初步成功.

English Abstract

参考文献 (9)

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