摘要: 众所周知,用真空蒸镀法制得的窄带介质干涉滤光片,由于其膜层结构的不可逆变化,以及环境大气中的潮汽充填入膜层,滤光片的光学特性会发生改变。以前曾指出过,在真空中用电子束蒸镀SiO2,ZrO2或HfO2制成的窄带介质干涉滤光片,若采用熔封保护玻璃的方法将其密封起来,则滤光片的光学特性可以做到完全稳定。对于真空热蒸发镀制的ZnS/MgF2窄带干涉滤光片,用上述方法稳定其光学性能,也有很大的实用意义。因为它们的镀制过程用很简单的真空镀膜设备就能实现,所以这类滤光片具有更广泛的工艺性。