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相位共轭与光刻

涤非

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相位共轭与光刻

  • 摘要: 将一束激光通过变形介质,如透镜或烟团。如果光由原反射镜反射,则合成的光束将出现二次通过介质产生的畸变。反之,当光束第二次作用于介质时,方向相同但相位相反的原共轭光波就完全不发生畸变。相位共轭技术可用于核聚变、能量传输、通讯、以及其他需要解决信号畸变问题的领域。相位共轭技术的一个重要应用领域是生产大规模集成电路。离子束加工系统用下述方法可制造极精确的图象:光通过带母模的掩模传播,并在称为“共轭晶体”的光学介质中与两束反向的激光束互相干涉,干涉产生的一束新的光束与发自掩模的光精确重叠。
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出版历程
  • 刊出日期:  1982-07-25

相位共轭与光刻

摘要: 将一束激光通过变形介质,如透镜或烟团。如果光由原反射镜反射,则合成的光束将出现二次通过介质产生的畸变。反之,当光束第二次作用于介质时,方向相同但相位相反的原共轭光波就完全不发生畸变。相位共轭技术可用于核聚变、能量传输、通讯、以及其他需要解决信号畸变问题的领域。相位共轭技术的一个重要应用领域是生产大规模集成电路。离子束加工系统用下述方法可制造极精确的图象:光通过带母模的掩模传播,并在称为“共轭晶体”的光学介质中与两束反向的激光束互相干涉,干涉产生的一束新的光束与发自掩模的光精确重叠。

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