多层光学薄膜镀制中的一些实际问题
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摘要: 下面刊载的是美国著名薄膜光学家 A·西伧(Alfred Thelen)博士,在给译者的私人通信中寄来的文稿。信中作者指出,根据他们的经验,并不是膜厚监控器限制了薄膜镀制精度。本刊今后将陆续刊登这类未曾公开发表的颇有实用价值的国外文献,以飨读者。
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Key words:
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[1] G.Wulff,internal ccmmunication 33alzers AG,7 Oct.1974.H.K.Pulker,G.Paesold sand E.Ritter,Refractive fndices of Ti02—Films,Produced by Reactive E}raporation of Various Titanium; Oxygen Phases,to be published in Applied Optics. [2] Edward B.Graper,Distribution and Apparent Source Geometry of,Electron Beam Heated Evaporation Sources,a paper presented at the 1972 National.Vacuum Symposium of the American Vacuum Society,3 Oct.1972.in Chicago,I,P.11. [3] USP.3773548,1973. [4] I.Wilmanns,OLS der BRD 24 12 729 vom 25.9.1975. [5] H.A.MacIeod Optical Acta,1972,Vol.19,No.1 [6] V.Baneu,Appl Opt.1975,Vol.14.9.962 [7] H K Pullcer et al.Thin solid Films,1976,Vol.32,P.27
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