| [1] | J,O.S,A.,1977, Vol.67, P.1430. |
| [2] | Appl.Opt.,1971,Vol.10, No.12,P.2658. |
| [3] | Appl.Opt.,1976, Vol.15, No.12, P.2968. |
| [4] | 苏家驹,电子束镀膜时荷电粒子对薄膜质量的影响,待发表. |
| [5] | Thin Solid Films, 1980, Vol.70,No.1,P.43. |
| [6] | Rev.Scient,Instrum.,1969,Vo1,40,No.R.P.1054. |
| [7] | 光学工程,1978年,3月. |
| [8] | Thin Solid Films, 1976, Vol.34, P.363. |
| [9] | Reactive evaporation of hard SiO2/TiO2 maltflayers,北京815薄膜座谈会议资料(西德). |
| [10] | Apll.Opt.,1973, Vol.12,No.4. |